TECHNICAL ARTICLES

技术文章

当前位置:首页  >  技术文章  >  半导体去胶怎么办,晟鼎微波等离子清洗机去残胶

半导体去胶怎么办,晟鼎微波等离子清洗机去残胶

发布时间:2022-08-22    浏览量:3535

半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中,各类光刻胶的等离子去除,去除材料表面污染物,保证与其他材料的结合能力。

除胶之外,微波等离子还有什么应用?


FC封装微波等离子处理

金属键合前处理

晶圆表面活化

技术壁垒高,危机和机遇并存

  • 技术壁垒较高,美、日、韩品牌形成垄断

  • 绝大部分品牌外购微波半导体等离子发生器

  • 价格昂贵

  • 交付周期超过半年

  • 服务无法及时响应

sindin自主研发  掌控技术

  • 国内首家自主研发微波半导体去胶发生器技术;

  • 磁流体旋转架,保证处理效果均匀;

  • 微波无放电电极,高效均匀,保证刻蚀率;

  • 低温等离子体,避免产生热损伤;

  • 自偏压要求低,微波结和磁路可以兼容。

半导体微波等离子去胶机

技术+服务+性价比  实现国产替代

技术保障

微波半导体去胶发生器技术,并可提供双电源技术(MW+Bias RF)解决客制化问题。

图片

服务保障

研发实力

图片
  • 专业的半导体研发团队,并拥有多位十五年以上半导体从业经验的高级工程师。

  • 华南理工大学等离子技术联合实验室,多位教授担任项目技术顾问;

  • 四川大学半导体项目战略合作伙伴;

客制化方案

图片
  • 多行业龙头客制化方案经验;

  • 产品全面,可满足不同客制化需求。

一站式服务

图片
  • 销售、技术、售后项目组一站式服务;

  • 专业有素的售后服务团队辐射全国及海外。

降本30%以上,性价比高,产品完全符合行业

微波等离子清洗机 1.png

联系人:郭经理

微信号:180 6809 9686

地址:昆山市开发区三巷路427号7号楼

24小时咨询电话
180 6809 9686
周一至周五 09:00-18:00

扫一扫,关注我们

Copyright 2022 昆山晟鼎工业智能科技有限公司版权所有 备案号:苏ICP备2022029503号-2
sitemap.xml    管理登陆    技术支持:化工仪器网

TEL:180 6809 9686